- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
Détention brevets de la classe G03F 7/038
Brevets de cette classe: 3346
Historique des publications depuis 10 ans
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294
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252
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270
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86
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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---|---|---|
FUJIFILM Corporation | 27102 |
804 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
263 |
JSR Corporation | 2476 |
190 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1481 |
183 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
89 |
Toray Industries, Inc. | 6652 |
88 |
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3188 |
69 |
Sumitomo Chemical Company, Limited | 8808 |
66 |
Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
56 |
LG Chem, Ltd. | 17205 |
48 |
Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | 1400 |
46 |
Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | 1416 |
43 |
Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1822 |
36 |
Merck Patent GmbH | 5909 |
35 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
33 |
Eastman Kodak Company | 3444 |
30 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
29 |
Central Glass Company, Limited | 1244 |
28 |
International Business Machines Corporation | 60644 |
26 |
San-Apro Limited | 73 |
25 |
Autres propriétaires | 1159 |